我國半導體制造核心技術(shù)突破 僅次于光刻的重要環(huán)節打破國外壟斷
發(fā)布時(shí)間:2024-09-10麥斯克電子材料股份有限公司點(diǎn)擊:1090
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據國家電力投資集團有限公司(以下簡(jiǎn)稱(chēng)“國家電投”)9月10日消息,近日,國家電投所屬?lài)娡逗肆?chuàng )芯(無(wú)錫)科技有限公司(以下簡(jiǎn)稱(chēng)“核力創(chuàng )芯”)暨國家原子能機構核技術(shù)(功率芯片質(zhì)子輻照)研發(fā)中心,完成首批氫離子注入性能優(yōu)化芯片產(chǎn)品客戶(hù)交付。
國家電投表示,這標志著(zhù)我國已全面掌握功率半導體高能氫離子注入核心技術(shù)和工藝,補全了我國半導體產(chǎn)業(yè)鏈中缺失的重要一環(huán),為半導體離子注入設備和工藝的全面國產(chǎn)化奠定了基礎。
據國家電投介紹,氫離子注入是半導體晶圓制造中僅次于光刻的重要環(huán)節,在集成電路、功率半導體、第三代半導體等多種類(lèi)型半導體產(chǎn)品制造過(guò)程中起著(zhù)關(guān)鍵作用,該領(lǐng)域核心技術(shù)及裝備工藝的缺失嚴重制約了我國半導體產(chǎn)業(yè)的高端化發(fā)展,特別是600V以上高壓功率芯片長(cháng)期依賴(lài)進(jìn)口。核力創(chuàng )芯的技術(shù)突破,打破了國外壟斷。
核力創(chuàng )芯在遭遇外國關(guān)鍵技術(shù)及裝備封鎖的不利條件下,堅持自力更生,自主創(chuàng )新,打造新質(zhì)生產(chǎn)力,在不到三年的時(shí)間里,突破多項關(guān)鍵技術(shù)壁壘,實(shí)現了100%自主技術(shù)和100%裝備國產(chǎn)化,建成了我國首個(gè)核技術(shù)應用和半導體領(lǐng)域交叉學(xué)科研發(fā)平臺。首批交付的芯片產(chǎn)品經(jīng)歷了累計近萬(wàn)小時(shí)的工藝及可靠性測試驗證,主要技術(shù)指標達到國際先進(jìn)水平,獲得用戶(hù)高度評價(jià)。
來(lái)源:國家電投